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    依托半導體高端設備研制,通過半導體高端設備、真空技術兩個板塊,建立電子裝備的產業化經營格局
    •  真空鍍碳爐

    真空鍍碳爐

    主要應用在半導體晶體材料的生長工藝過程中,對石英坩堝內壁鍍碳處理,能夠有效阻隔高溫溶體與石英坩堝的反應,有利于完整、高質量單晶體的生產。


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    應用范圍:

    主要應用在半導體晶體材料的生長工藝過程中,對石英坩堝內壁鍍碳處理,能夠有效阻隔高溫溶體與石英坩堝的反應,有利于完整、高質量單晶體的生產。


    產品特點:

    ■  全自動控制,多段溫區加熱;

    ■  溫控精度高、成膜均勻性好;

    ■  適用于多種規格安瓿。


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